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全影像校正光譜儀

產(chǎn)品簡(jiǎn)介
Major-300i全影像校正光譜儀，采用高性能像差校正光學(xué)設(shè)計(jì)，分辨率達(dá)0.10nm，支持多光柵塔臺(tái)切換與多光譜測(cè)試模式，廣泛應(yīng)用于拉曼、熒光、顯微光譜、透反吸光譜等科研場(chǎng)景，是一款緊湊穩(wěn)定的高性能光譜探測(cè)設(shè)備。

產(chǎn)品型號(hào)：Major-300i

更新時(shí)間：2026-08-24

廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家

訪問(wèn)量：10

產(chǎn)品咨詢 18117546256

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PRODUCT CLASSIFICATION

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全影像校正光譜儀

? 產(chǎn)品概述:

w 光學(xué)設(shè)計(jì)：采用像差校正光路設(shè)計(jì)，提升成像質(zhì)量與光譜分辨率。

w 驅(qū)動(dòng)控制：閉環(huán)電機(jī)驅(qū)動(dòng)，無(wú)回程誤差，實(shí)現(xiàn)高精度波長(zhǎng)定位。

w 精密狹縫：保證入射光斑穩(wěn)定，提高光譜分辨能力與測(cè)試一致性。

w 機(jī)械結(jié)構(gòu)：緊湊式高剛性結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，占用空間小，光路穩(wěn)定性優(yōu)異。

w 光柵系統(tǒng)：支持三光柵 Turret 塔臺(tái)切換，可靈活覆蓋不同波段與分辨率需求。

w 掃描方式：支持正負(fù)波長(zhǎng)雙向高速掃描，減少波長(zhǎng)切換時(shí)間，提高測(cè)試效率。

w 外部擴(kuò)展：支持光纖接口、電動(dòng)濾光片轉(zhuǎn)輪、電動(dòng)快門(mén)等多種擴(kuò)展配件。

w 輸出接口：提供多種可定制出光口，便于對(duì)接外部探測(cè)與成像設(shè)備。

w 鍍膜工藝：采用高性能光學(xué)鍍膜技術(shù)，提高光通量并有效抑制雜散光。

w 軟件與開(kāi)發(fā)：配套友好操作軟件，支持 PL、Trans/Abs、Raman、LIBS 等測(cè)試模式，并提供完整 SDK 便于二次開(kāi)發(fā)與系統(tǒng)集成。

w 應(yīng)用場(chǎng)景：廣泛應(yīng)用于拉曼光譜、熒光光譜、吸收/透射光譜、顯微光譜、光致發(fā)光（PL）、等離子體診斷及 LIBS 等領(lǐng)域。

? 技術(shù)規(guī)格（@1200g/mm光柵）：

型號(hào)	Major-300i
焦距（mm）	300mm
相對(duì)孔徑	f/3.9
光譜分辨率（nm）@PMT	0.10 nm（狹縫寬20 μm）
光譜分辨率（nm）@CCD	0.10 nm
倒線色散（nm/mm）	2.37 nm/mm
在28 mm寬CCD上的波長(zhǎng)覆蓋范圍（CCD單次拍譜范圍）	66.3 nm
焦平面尺寸	36 mm×51 mm
掃描范圍	0-1500 nm
掃描步距	0.008 nm/step
波長(zhǎng)準(zhǔn)確度	0.2 nm
波長(zhǎng)重復(fù)性	±0.02 nm
轉(zhuǎn)塔	Turret式光柵塔
光柵切換重復(fù)性	0.02 nm
光柵尺寸	68 mm×68 mm
允許配置的轉(zhuǎn)塔數(shù)量	最多3個(gè)光柵
計(jì)算機(jī)接口	USB2.0

? 光柵配置：

光柵配置	Grating 1	Blaze wavelength	Grating 2	Blaze wavelength	Grating 3	Blaze wavelength
紫外配置 1	600 g/mm	300 nm	1200 g/mm	300 nm	2400 g/mm	250 nm
紫外配置 2	1200 g/mm	300 nm	1800 g/mm	250 nm	2400 g/mm	250 nm
紫外-可見(jiàn)- 近紅外	600 g/mm	300 nm	600 g/mm	500 nm	600 g/mm	750 nm
可見(jiàn)配置	300 g/mm	500 nm	600 g/mm	500 nm	1200 g/mm	500 nm
紅外配置 1	300 g/mm	1200 nm	600 g/mm	1000 nm	1200 g/mm	1000 nm
紅外配置 2	150 g/mm	1250 nm	300 g/mm	1200 nm	600 g/mm	1600 nm